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Finden Sie die richtige Chemie für Ihren Prozess

Vom Schleifen und Polieren bis zum Reinigen und Trennen bietet Intersurface Dynamics ein umfassendes Portfolio an Prozesschemikalien, die auf Leistung, Kompatibilität und Konsistenz ausgelegt sind. Ganz gleich, ob Sie eine bewährte Formulierung oder eine kundenspezifische Mischung benötigen, wir helfen Ihnen, die Ergebnisse bei jedem Schritt zu optimieren.

Verfahrenstechnische Chemikalien nach Anwendung und Industrie

Verwenden Sie die Matrix, um Lösungen zu finden, die auf Ihre Prozessparameter abgestimmt sind, oder navigieren Sie zu den einzelnen Produktseiten, um technische Daten und Anwendungsempfehlungen zu erhalten.

Industrie Kühlmittel Läppen und Polieren Reinigungsmittel
Produkt Typ Produkt Typ Produkt Typ
Halbleiter Vektor HTG Schleifflüssigkeit Vektor HTS Läppen und Polieren von Fahrzeugen Vektor HTR Nasslagerung
Tensor HTD Würfelflüssigkeit Kundenspezifische CMP-Schlämme Vollständig formulierter Schlamm Vektor HTC-SCA Ultraschall-Reinigungsmittel
Vektor HTI-1.1 Schmiermittel/Kühlmittel für Seilsägen Vektor TXT Diamant-Schlamm-Basis Tensor DG Sprühwaschmittel
Vektor Serie C-E SiC-Diamant-Slurry Tensor D-Spülung Klarspüler und Dechuckflüssigkeit
Kundenspezifische PCMP-Reinigungen PCMP-Reiniger
Optisch

Spezialisierte Materialien
Serie Challenge 300 Schleifflüssigkeit Serie Challenge 550 Läppende Fahrzeuge Herausforderung 700-HT Nasslagerung
Herausforderung 300-CR Schleifflüssigkeit Herausforderung 543-HT Gülle-Zusatzstoff Serie Challenge 800 Ultraschall-Reinigungsmittel
Herausforderung 361-HT Schleifflüssigkeit Serie Challenge 900 Klarspüler
Quecksilber 1000 Kühlmittel für Sägeblätter
Alle
  • Alle
  • Kühlmittel
  • Reinigungsmittel
  • Läppen und Polieren
CHALLENGE 300-Serie

Synthetische Schleifflüssigkeiten

HERAUSFORDERUNG 300-CR

Synthetisch erzeugendes Kühlmittel für Kunststoff- und Glaslinsen

HERAUSFORDERUNG 361-HT

Synthetische Schleifflüssigkeit für keramische und optische Materialien

HERAUSFORDERUNG 543-HT

Läpp-/Polierschlammadditive zur Suspendierung von unbehandeltem Schleifmittel

CHALLENGE 550-Serie

Läpp-/Polierschlammadditive zur Suspendierung von unbehandeltem Schleifmittel

HERAUSFORDERUNG 700-HT

Additive für die Spülung nach dem Schleifen/Polieren und die Nasslagerung von Teilen während des Prozesses

CHALLENGE 800-Serie

Wässrige Detergenzien für die Ultraschall-/Megaschallreinigung

CHALLENGE 900-Serie

Schaumarme Detergenzien für die Reinigung von FPD-Glas und Solarwafern

Kundenspezifische CMP-Schlämme

Vollständig formulierte Schlämme, die nach Ihren Spezifikationen hergestellt werden

Kundenspezifische PCMP-Reinigungen

Vollständig formulierte Reinigungschemikalien, die nach Ihren Spezifikationen hergestellt werden

MERCURY 1000

Synthetische Schleifflüssigkeit

TENSOR D-Spülung

Additiv für Hochdruck-Pad-Spül-/Wafer-Entspannungszyklen

TENSOR DG Baureihe

Reinigungslösungen für die IC-Fertigung

TENSOR HTD-Serie

Dicing/Back-Grinding Kühl-/Schmierstoffe mit Korrosionsschutz- und ESD-Unterdrückungszusätzen

VECTOR HTC-SCA Baureihe

Ultraschall-/Megaschall-Reinigungsmittel

VECTOR HTG

Synthetische Schleifflüssigkeit

VECTOR HTI-1.1

Synthetisches Kühl-/Schmiermittel für das Siliziumschneiden, -sägen und -kantenschleifen in nicht-zirkulierenden Anwendungen

VECTOR HTR

Additiv für die Spülung von Siliziumwafern - nach dem Läppen/Polieren, Sägen und Texturieren

VECTOR HTS-Reihe

Läpp-/Polierschlammadditive für Halbleitermaterialien

VECTOR Serie C-E Diamantschlämme

C-E Diamond Slurry speziell für Siliziumkarbid entwickelt

VECTOR TXT

Basis zur Erhöhung der Abtragsrate bei der Herstellung von Diamantsuspensionen

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Kundenspezifische Formulierungen

Arbeiten Sie mit unseren Experten zusammen, um eine Lösung für Ihren genauen Prozess zu entwickeln

Wir bieten eine breite Palette bewährter Produkte für die Oberflächenchemie an, aber wir arbeiten auch gerne mit unseren Kunden zusammen, um neue, maßgeschneiderte Lösungen zu entwickeln, die auf neue Materialtypen, Integrationsprobleme oder Prozessinnovationen zugeschnitten sind.

IDI kann bei der Entwicklung von Methoden zur Vorbereitung von Waferoberflächen helfen:

  • Nachgelagerte Verarbeitung
  • Kleben von Wafer zu Wafer
  • Epitaxie
  • Prozesse, die eine sehr geringe Oberflächenrauheit erfordern

Projekte, bei denen IDI helfen kann:

  • Unerfüllter Bedarf an Technologie für Verbrauchsgüter
  • Auslaufende/veraltete POR-Chemie
  • Herausforderungen bei der Einfuhr
  • Verbrauchsmaterialien, die den Beschaffungsbeschränkungen im Verteidigungsbereich entsprechen

Gemeinsame Anwendungen

  • Schleifen und Ausdünnen der Waferrückseite
  • CMP & Läppen für Silizium, SiC, GaAs, GaN, InP, LiNbO₃
  • Reinigung nach dem CMP, nach dem Würfeln und nach der Runde
  • Oberflächenvorbereitung für Verklebung, Passivierung und Verpackung
  • Formgebung des Substrats, Beschneiden und Kantenfräsen