Seit 1985 stellt Intersurface Dynamics anwendungsspezifische Chemikalien her, mit denen sich spezifische Oberflächenmorphologien auf einer Vielzahl von Materialien erzielen lassen. Zu unseren Kunden zählen einige der weltweit größten Hersteller von Halbleiterbauelementen, Siliziumwafern, Präzisionsoptik, Brillengläsern, Keramik, modernen Displays und Flachglas. Diese Hersteller verlassen sich auf unsere bewährten Produkte und unser Fachwissen, um die kritische Großserienfertigung zu optimieren.
Tensor-Reihe
Die Produkte der Tensor-Serie werden von Herstellern integrierter Schaltkreise in Anwendungen wie Reinigung, Ätzen, Dicing und CMP eingesetzt.
Vektor-Reihe
Die Produkte der Vector-Serie wurden speziell für das Schleifen, Sägen, Läppen, Reinigen, Ätzen und Polieren von Halbleitermaterialien wie Silizium- und SiC-Wafern entwickelt.
Herausforderung Serie
Die Produkte der Challenge-Serie sind für ähnliche Prozesse bei Herstellern von Präzisionsoptik, technischer Keramik und hochentwickelten Displays geeignet und tragen zu einer optimalen Ausbeute bei.
Finden Sie die richtige Chemie für Ihren Prozess
Maßgeschneiderte Lösungen beginnen mit einem Gespräch. Ganz gleich, ob Sie Hilfe bei der Auswahl eines Produkts oder bei der Entwicklung einer maßgeschneiderten Formulierung benötigen, unsere Experten sind für Sie da.
Fortschrittliche Fertigung
Alle Produkte von Intersurface Dynamics werden auf automatisierten Produktionslinien in unserem nach ISO-9001:2015 registrierten Werk hergestellt. Durch den Einsatz fortschrittlicher Fertigungstechniken und hochmoderner Analysegeräte gewährleisten wir hervorragende Qualität, Zuverlässigkeit und zeitnahen Service für kritische verfahrenstechnische Anforderungen.
Produktdesign
Das Produktdesign wird durch die Anregungen unserer Kunden bestimmt, während die laufende Grundlagenforschung in den Bereichen Chemie, Physik und Materialwissenschaft die Innovation fördert. Arbeitssicherheit und Umweltverträglichkeit sind integraler Bestandteil unseres Prozesses und gewährleisten einen ausgewogenen Ansatz, der den Bedürfnissen und Herausforderungen unserer Kunden gerecht wird.
Prozess-Simulation
Sobald eine Formulierung entworfen ist, wird sie durch Anwendungstests in unserem Prozesssimulationslabor optimiert. Neue Produkte werden getestet, indem die Produktionsumgebung des Kunden simuliert wird. Mit modernen Messgeräten werden die Ergebnisse erfasst und die Daten überprüft, um die Marktfähigkeit zu bestimmen.
Kundenspezifische Anwendungsunterstützung
Seit 1986 stellt Intersurface Dynamics anwendungsspezifische Produkte für die Oberflächenvorbereitung her, die den Anforderungen der modernsten Technologien unserer Kunden gerecht werden. Unsere kundenspezifisch formulierten Produkte wurden alle für optimale Leistung, zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse und eine sichere Handhabung im Hinblick auf die zu bearbeitenden Materialien und die verwendeten Prozesse entwickelt, unabhängig davon, ob Sie Siliziumwafer läppen, gerätebeladene Substrate würfeln oder optische Präzisionslinsen bearbeiten. Unser beratender Ansatz beim Verkauf unserer Produkte stellt sicher, dass unsere Kunden die beste Lösung für ihren Prozess erhalten. Rufen Sie uns noch heute an oder schicken Sie uns eine E-Mail, damit wir unsere jahrzehntelange Erfahrung in Ihre Hände legen können.
14 Tage Vorlaufzeit für die meisten Aufträge + Schlüsselfertige Lösungen
Unser datengesteuertes Bestandsmanagement und unsere optimierten Fertigungsmethoden halten die Vorlaufzeiten auf ein Minimum, damit Sie produktiv bleiben können. Selbst Vollcontainer-Bestellungen sind in weniger als zwei Wochen zur Abholung bereit. Haben Sie Fragen zu einer bestimmten Anwendung? Wir bieten Laboranalysen an, um alle Ihre Fragen zu beantworten. Müssen Sie ein Produkt für Ihren Prozess qualifizieren? Fragen Sie nach einem kostenlosen Muster, um Ihnen zu helfen. Wir möchten, dass Sie rundum zufrieden sind und sicher sein können, dass unsere Produkte in Ihren kritischen Prozessen wiederholt maximale Wirkung zeigen. Selbst wenn Sie nicht sehen, wonach Sie suchen, werden unsere Experten mit Ihnen zusammenarbeiten, um eine Lösung zu finden.
Heimische Produktion für kritische Industrien
Alle Produkte werden in unserem ISO-zertifizierten Werk in den USA hergestellt, um die Einhaltung der Beschaffungsanforderungen für sensible Projekte und Branchen zu gewährleisten und die mit dem Import verbundenen Probleme zu beseitigen.
Expertenlösungen, für Sie entwickelt
Spezialisierte Lösungen für die moderne Halbleiterfertigung
Amtech Semiconductor Fabrication Solutions ist ein Geschäftsbereich von Amtech Systems, Inc. und ein weltweiter Anbieter von Anlagen und Materialien für die Halbleiterindustrie. Dieses Segment liefert Investitionsgüter und Verbrauchsmaterialien, die während des gesamten Halbleiterherstellungsprozesses - einschließlich Advanced Packaging und Elektronikfertigung - eingesetzt werden und alles von der Substratverarbeitung bis zur Endmontage abdecken.
Die Marken Intersurface Dynamics, Entrepix und PR Hoffman von Amtech Semiconductor Fabrication Solutions zeichnen sich durch ihr Engagement für kundenspezifische Lösungen aus - was immer der Kunde benötigt, sie liefern es. Über die kundenspezifische Anpassung hinaus liegt ihr Wettbewerbsvorteil in der Reaktionsfähigkeit, die sich durch schnelle Durchlaufzeiten zur Erfüllung der Kundenanforderungen auszeichnet. Darüber hinaus arbeitet jede Marke mit einem tiefgreifenden, prozessspezifischen Fokus und bringt Spezialisten aus eng verwandten Bereichen zusammen. Diese Struktur stellt sicher, dass die Kunden von echtem Fachwissen profitieren, das auf ihre spezifischen Fertigungsanforderungen zugeschnitten ist.
Amtech Semiconductor Fabrication Solutions unterstützt Ihren Fertigungsprozess durch fachkundige Zusammenarbeit. Unsere spezialisierten Tochtergesellschaften - Intersurface Dynamics, PR Hoffman und Entrepix - verfügen über ein unvergleichliches Fachwissen in Bezug auf anwendungsspezifische Chemikalien, Polier- und Läppschablonen sowie CMP-bezogene Upgrades. Als flinkes und reaktionsschnelles Unternehmen zeichnen wir uns durch schnelle Partnerschaften aus, die es uns ermöglichen, maßgeschneiderte Lösungen für Ihre individuellen Herausforderungen zu entwickeln. Gemeinsam verbessern wir jeden kritischen Schritt Ihrer Halbleiter-, Verbindungshalbleiter- und Substratherstellungsprozesse und fördern so Innovation und Präzision.
Herstellungsverfahren für Halbleitersubstrate
Eingangssubstrat
- Si (Silizium)
- SiC (Siliziumkarbid)
- GaN (Galliumnitrid)
- GaAs (Galliumarsenid)
- InP (Indiumphosphid)
- Glas
- Sapphire
Ausgabe
Fertige Wafer oder Substrat