产品

为您的工艺寻找合适的化学成分

从研磨和抛光到清洗和切割,Intersurface Dynamics 可提供全面的工艺化学品组合,这些化学品专为高性能、兼容性和一致性而设计。无论您需要的是经过验证的配方还是定制的混合物,我们都能帮助您优化每个步骤的效果。

按应用和行业分列的工艺工程化学剂

使用矩阵来确定与您的工艺参数相匹配的解决方案,或浏览各个产品页面以获取技术数据和使用建议。

行业 冷却剂 研磨和抛光 洗涤剂
产品 类型 产品 类型 产品 类型
半导体 向量 HTG 研磨液 矢量 HTS 研磨和抛光车 矢量 HTR 湿存储
张量 HTD 切割液 定制 CMP 泥浆 全配方泥浆 矢量 HTC-SCA 超声波洗涤剂
矢量 HTI-1.1 线锯润滑剂/冷却剂 向量 TXT 金刚石泥浆底座 张量 DG 喷雾洗涤剂
向量系列 C-E SiC 金刚石浆料 张量 D-Rinse 冲洗剂和去垢液
定制 PCMP 清洁 PCMP 清洁剂
光学

特种材料
挑战 300 系列 研磨液 挑战 550 系列 研磨车辆 挑战 700-HT 湿存储
挑战 300-CR 研磨液 挑战 543-HT 泥浆添加剂 挑战 800 系列 超声波洗涤剂
挑战 361-HT 研磨液 挑战 900 系列 光亮剂
水星 1000 锯片冷却液
全部
  • 全部
  • 冷却剂
  • 洗涤剂
  • 研磨和抛光
挑战 300 系列

合成磨削液

挑战 300r

用于塑料和玻璃镜片的合成发泡冷却剂

挑战 361-ht

用于陶瓷和光学材料的合成研磨液

挑战 543-ht

用于悬浮未处理磨料的研磨/抛光浆添加剂

挑战 550 系列

用于悬浮未处理磨料的研磨/抛光浆添加剂

挑战 700-HT

用于部件抛光后冲洗和加工过程中湿式储存的添加剂

挑战 800 系列

用于超声波/超声波清洗的水性洗涤剂

挑战 900 系列

用于清洁平板显示器玻璃和太阳能晶片的低泡沫洗涤剂

定制 CMP 泥浆

完全按照您的规格配制的泥浆

定制 PCMP 清洁

完全按照您的要求配制的清洁化学药剂

MERCURY 1000

合成研磨液

TENSOR D-Rinse

用于高压垫冲洗/晶片脱壳循环的添加剂

ENSOR DG 系列

集成电路制造清洁解决方案

传感器 HTD 系列

含防腐蚀和防静电添加剂的切割/背磨冷却剂/润滑剂

VECTOR HTC-SCA 系列

超声波/超声波洗涤剂

向量 HTG

合成研磨液

VECTOR HTI-1.1

用于非循环应用中硅切割、锯切和磨边的合成冷却剂/润滑剂

VECTOR HTR

用于漂洗硅晶片的添加剂 - 研磨/抛光、锯切和制纹后使用

VECTOR HTS 系列

用于半导体材料的研磨/抛光浆料添加剂

VECTOR C-E 系列金刚石泥浆

专为碳化硅开发的 C-E 金刚石浆料

VECTOR TXT

提高金刚石泥浆生产的去除率基质

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定制配方

与我们的专家合作,为您的具体流程量身定制解决方案

我们提供各种久经考验的表面化学产品,但我们同样致力于与客户合作,开发新的定制解决方案,以应对新材料类型、集成挑战或工艺创新。

IDI 可协助开发用于制备晶圆表面的方法:

  • 下游加工
  • 晶圆与晶圆粘接
  • 外延
  • 要求超低表面粗糙度的工艺

IDI 可以协助的项目

  • 未满足的消耗品技术需求
  • POR 化学停产/淘汰
  • 进口挑战
  • 符合国防采购限制的消耗品

常见应用

  • 晶圆背面打磨和减薄
  • 用于硅、SiC、GaAs、GaN、InP、LiNbO₃ 的 CMP 和研磨
  • CMP、骰子和圈后清洁
  • 用于粘接、钝化和包装的表面预处理
  • 基底整形、裁剪和边缘倒角