In den heutigen hochpräzisen Fertigungsumgebungen ist die Reinigung entscheidend - nicht nur für die Ausbeute, sondern auch für die Integrität der nachgelagerten Prozesse.
Die Reinigung nach dem Prozess muss mehr leisten als nur sichtbare Verunreinigungen zu entfernen - sie muss mikroskopisch kleine Verunreinigungen beseitigen, eine erneute Ablagerung verhindern und die Oberflächen für die Verklebung, Beschichtung oder Verpackung vorbereiten. Aber jedes Material, jedes Werkzeug und jeder Prozessschritt stellt eine eigene Reihe von Herausforderungen dar.
Da die Fertigung immer komplexer und miniaturisierter wird, ist eine effektive Reinigung nicht nur ein letzter Schritt, sondern ein entscheidender Faktor für die Ausbeute und langfristige Zuverlässigkeit.
Intersurface Dynamics bietet eine Reihe von wässrigen Reinigungsmitteln und Reinigungsadditiven an, die zur Unterstützung von Einzelwafer-, Batch-, Ultraschall-, Megaschall- und Sprühreinigungssystemen in der Halbleiter-, Optik-, Photonik- und Flachbildschirmindustrie entwickelt wurden
Präzise Kontrolle von Partikelabtrag und Oberflächenenergie
Rückstandsarme, materialschonende Formulierungen
Unterstützung für Ultraschall-, Megaschall-, Sprüh- und Chargensysteme
Kundenspezifische Entwicklung zur Erfüllung exakter Prozessspezifikationen
Ultraschall- und Megaschallreinigung
- Wässrige Reinigungsmittel für Ultraschall- und Megaschallgeräte
- Entfernen feiner Partikel und Rückstände ohne Beschädigung der Substrate
- Formuliert für empfindliche Materialien wie Optik, hochbrechendes Glas, Keramik und Halbleiter
Wichtigste Produkte:
Serie Challenge 800
Baureihe Vector HTC-SCA
Herausforderung 700-HT
PCMP und Spritzreinigung
- Schaumarme Chemikalien für Post-CMP- und Single-Wafer-Reinigungswerkzeuge
- Ideal zum Entfernen von Schlammrückständen, Partikeln und chemischen Nebenprodukten
- Sicherstellung sauberer, rückstandsfreier Oberflächen für die Verklebung und Passivierung
Wichtigste Produkte:
Kundenspezifische PCMP-Reinigungen
Tensor DG-Reihe
Tensor D-Spülung
Spülung nach dem Prozess und Nasslagerung
- Zusatzstoffe für die prozessbegleitende Spülung und Nasslagerung zwischen kritischen Schritten
- Verhindert die erneute Ablagerung und Oxidation von Partikeln
- Kompatibel mit Silizium, Verbindungshalbleitern und modernen Materialien
Wichtigste Produkte:
Vektor HTR
Herausforderung 700-HT
Anwendungsbereiche:
Wir arbeiten eng mit unseren Kunden zusammen, um gemeinsam Reinigungsmittel zu entwickeln, die für ihre spezifischen Geräte, Materialien und Ziele optimiert sind.
Ganz gleich, ob Sie extrem schaumarme Eigenschaften, zusätzliche Korrosionshemmung oder Kompatibilität mit exotischen Materialien benötigen - wir formulieren die richtige Chemie für Ihren Prozess.
Arbeiten Sie mit unseren Experten zusammen, um eine Lösung für Ihren genauen Prozess zu entwickeln
Wir bieten eine breite Palette bewährter Produkte für die Oberflächenchemie an, aber wir arbeiten auch gerne mit unseren Kunden zusammen, um neue, maßgeschneiderte Lösungen zu entwickeln, die auf neue Materialtypen, Integrationsprobleme oder Prozessinnovationen zugeschnitten sind.
IDI kann bei der Entwicklung von Methoden zur Vorbereitung von Waferoberflächen helfen:
- Nachgelagerte Verarbeitung
- Kleben von Wafer zu Wafer
- Epitaxie
- Prozesse, die eine sehr geringe Oberflächenrauheit erfordern
Projekte, bei denen IDI helfen kann:
- Unerfüllter Bedarf an Technologie für Verbrauchsgüter
- Auslaufende/veraltete POR-Chemie
- Herausforderungen bei der Einfuhr
- Verbrauchsmaterialien, die den Beschaffungsbeschränkungen im Verteidigungsbereich entsprechen
Gemeinsame Anwendungen
HERGESTELLT IN DEN USA
Mehr als ein Lieferant - wir sind eine vertrauenswürdige Erweiterung Ihres Teams
IDI verfügt über mehr als 40 Jahre praktischer Erfahrung bei der Lösung von Prozessherausforderungen in der Praxis. Unsere Produkte werden in den USA hergestellt, mit kurzen Lieferzeiten, reaktionsschnellem Support und einem kollaborativen Ansatz, der sicherstellt, dass die Chemie zu Ihrem Prozess passt - und nicht andersherum.
IDI ist mehr als nur ein Lieferant - wir sind eine vertrauenswürdige Erweiterung Ihres Teams, das sich darauf konzentriert, Sie bei der Lösung von Herausforderungen und der Verbesserung von Ergebnissen zu unterstützen. Wir arbeiten eng mit Ihnen zusammen, um Lösungen zu empfehlen, zu verfeinern oder kundenspezifisch zu entwickeln, die die Leistung optimieren, die Verschwendung reduzieren und dafür sorgen, dass Ihr Betrieb reibungslos läuft.
Finden Sie die richtige Chemie für Ihren Prozess
Wir haben uns auf anwendungsspezifische Lösungen spezialisiert, die auf Ihre Materialien, Prozesse und Leistungsziele zugeschnitten sind. Ganz gleich, ob Sie Hilfe bei der Auswahl des richtigen Produkts oder bei der Entwicklung einer kundenspezifischen Formulierung benötigen, unsere Experten sind für Sie da.
Die Produktionsstätte von Intersurface Dynamic in Bethel, CT, ist nach ISO-9001:2015 zertifiziert. Dieses Engagement für Qualität in Kombination mit unseren fortschrittlichen Fertigungstechniken hat zu einem zuverlässigen und pünktlichen Service für unsere Kunden geführt.
Expertenlösungen, für Sie entwickelt
Spezialisierte Lösungen für die moderne Halbleiterfertigung
Amtech Semiconductor Fabrication Solutions ist ein Geschäftsbereich von Amtech Systems, Inc. und ein weltweiter Anbieter von Anlagen und Materialien für die Halbleiterindustrie. Dieses Segment liefert Investitionsgüter und Verbrauchsmaterialien, die während des gesamten Halbleiterherstellungsprozesses - einschließlich Advanced Packaging und Elektronikfertigung - eingesetzt werden und alles von der Substratverarbeitung bis zur Endmontage abdecken.
Die Marken Intersurface Dynamics, Entrepix und PR Hoffman von Amtech Semiconductor Fabrication Solutions zeichnen sich durch ihr Engagement für kundenspezifische Lösungen aus - was immer der Kunde benötigt, sie liefern es. Über die kundenspezifische Anpassung hinaus liegt ihr Wettbewerbsvorteil in der Reaktionsfähigkeit, die sich durch schnelle Durchlaufzeiten zur Erfüllung der Kundenanforderungen auszeichnet. Darüber hinaus arbeitet jede Marke mit einem tiefgreifenden, prozessspezifischen Fokus und bringt Spezialisten aus eng verwandten Bereichen zusammen. Diese Struktur stellt sicher, dass die Kunden von echtem Fachwissen profitieren, das auf ihre spezifischen Fertigungsanforderungen zugeschnitten ist.
Amtech Semiconductor Fabrication Solutions unterstützt Ihren Fertigungsprozess durch fachkundige Zusammenarbeit. Unsere spezialisierten Tochtergesellschaften - Intersurface Dynamics, PR Hoffman und Entrepix - verfügen über ein unvergleichliches Fachwissen in Bezug auf anwendungsspezifische Chemikalien, Polier- und Läppschablonen sowie CMP-bezogene Upgrades. Als flinkes und reaktionsschnelles Unternehmen zeichnen wir uns durch schnelle Partnerschaften aus, die es uns ermöglichen, maßgeschneiderte Lösungen für Ihre individuellen Herausforderungen zu entwickeln. Gemeinsam verbessern wir jeden kritischen Schritt Ihrer Halbleiter-, Verbindungshalbleiter- und Substratherstellungsprozesse und fördern so Innovation und Präzision.
Herstellungsverfahren für Halbleitersubstrate
Eingangssubstrat
- Si (Silizium)
- SiC (Siliziumkarbid)
- GaN (Galliumnitrid)
- GaAs (Galliumarsenid)
- InP (Indiumphosphid)
- Glas
- Sapphire
Ausgabe
Fertige Wafer oder Substrat
Ausgewählte Produkte
Finden Sie die richtige Chemie für Ihren Prozess
Maßgeschneiderte Lösungen beginnen mit einem Gespräch. Ganz gleich, ob Sie Hilfe bei der Auswahl eines Produkts oder bei der Entwicklung einer maßgeschneiderten Formulierung benötigen, unsere Experten sind für Sie da.