先进半导体制造的表面化学解决方案

半导体器件需要完美无瑕的精密表面制备--从晶圆切片到封装以及中间的每一个步骤。无论您使用的是硅、碳化硅还是化合物半导体,IDI 都能为半导体基片和器件的研磨、研磨、抛光、清洁和机加工提供专用化学制剂,所有这些都能满足不断发展的行业标准和工艺复杂性的要求。

半导体工艺对精密化学的要求

精确、纯净,每一步都有过程控制

随着节点的缩小和器件复杂性的增加,制造商面临着实现理想器件性能的严格设计标准,这就促使他们需要更平坦、光滑和超洁净的表面。

先进设备和材料层的平面化增加了对创新型表面制备耗材的需求,包括浆料、氧化剂、垫片、CMP 后冲洗和清洁化学药剂。

在后期处理过程中,每个晶片的价值都会成倍增加,因此精确、无缺陷的切割和清洗对于保护产量和设备可靠性至关重要。

  • 晶圆锯切、背面研磨和边缘成形需要使用冷却剂和润滑剂,以最大限度地减少热量、抗腐蚀和控制碎屑。
  • CMP 和研磨必须在均匀的材料去除与表面完整性和低缺陷率之间取得平衡,尤其是对于高价值晶片而言。
  • 后工序清洁要求清洁剂不留残留物,能与所有类型的基底清洁互动,并能与单晶片和批量工具集成。
  • SiC、GaAs、GaNInP等化合物半导体在材料硬度、化学敏感性和工艺兼容性方面带来了更多挑战。

IDI 提供高性能化学试剂组合,专为关键的半导体制造工作流程而设计--从基底成型到最终清洗

Intersurface Dynamics 专注于解决生产当今最尖端集成电路过程中固有的复杂问题,在表面精加工、平面化和封装等工艺领域拥有丰富的专业知识。这些专业技术为化学机械抛光和 CMP 后清洗、研磨和研磨、切割/细化以及芯片后清洗/钝化冲洗提供了高度发达的化学解决方案。

虽然大多数半导体器件都是在硅晶圆上制造的,但 SiC、砷化镓、氮化镓和磷化铟等化合物半导体材料也因其优势被广泛应用于需要高功率或高开关频率的应用中。无论采用哪种材料,半导体基底都必须超平且无缺陷。

IDI 为各种半导体相关材料提供抛光化合物和清洗剂:

  • 碳化硅(SiC)
  • 砷化镓/氮化镓(GaAs/GaN)
  • 磷化铟(InP)
  • 钽酸锂/铌酸锂(LiNbO3/LN)
  • 用于研磨和 CMP 的抛光泥浆
  • 用于批量清洗和单晶片 PCMP 清洗的清洁剂
  • 针对具体应用的添加剂和全配方CMP 泥浆
  • 与 SiC 和 GaN 等难加工材料兼容
  • 支持平面化、减薄和高级封装工艺
  • 专用清洁剂和全配方PMCP 清洁剂
  • 清除泥浆、硅粉和工艺残留物
  • 防止腐蚀和表面污染
  • 支持湿存储、垫片冲洗和晶圆去屑
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定制配方

与我们的专家合作,为您的具体流程量身定制解决方案

我们提供各种久经考验的表面化学产品,但我们同样致力于与客户合作,开发新的定制解决方案,以应对新材料类型、集成挑战或工艺创新。

IDI 可协助开发用于制备晶圆表面的方法:

  • 下游加工
  • 晶圆与晶圆粘接
  • 外延
  • 要求超低表面粗糙度的工艺

IDI 可以协助的项目

  • 未满足的消耗品技术需求
  • POR 化学停产/淘汰
  • 进口挑战
  • 符合国防采购限制的消耗品

常见应用

  • 晶圆背面打磨和减薄
  • 用于硅、SiC、GaAs、GaN、InP、LiNbO₃ 的 CMP 和研磨
  • CMP、骰子和圈后清洁
  • 用于粘接、钝化和包装的表面预处理
  • 基底整形、裁剪和边缘倒角

Intersurface Dynamic 位于康涅狄格州贝瑟尔的制造工厂已通过 ISO-9001:2015 认证。我们对质量的承诺与先进的制造技术相结合,为客户提供了可靠、及时的服务。

美国制造

我们不仅仅是供应商,更是您团队中值得信赖的一员

IDI 是Amtech Semiconductor Fabrication Solutions 的一部分,Amtech Semiconductor Fabrication Solutions 是一家专业公司集团,为从基板到封装的先进半导体制造提供支持。作为该集成网络的成员,我们为每项业务带来深厚的工艺知识、共同的创新和更多的技术资源。

IDI 拥有 40 多年的经验,在美国设有制造基地,并采用亲力亲为的协作方式,我们不仅仅是一家供应商,更是您团队值得信赖的延伸,专注于帮助您解决挑战和提高成果。

  • 总部设在美国生产
  • 快速周转和响应时间
  • 特定应用解决方案
  • 协作专家支持
  • 经过验证的成果跨行业

专家解决方案,为您量身定制

先进半导体制造的专业解决方案

Amtech 半导体制造解决方案是 Amtech 系统公司的一个部门,该公司是半导体行业设备和材料的全球供应商。该部门供应半导体制造过程(包括先进封装和电子制造)中使用的资本设备和消耗品,涵盖从基片加工到最终组装的所有环节。

Amtech 半导体制造解决方案公司旗下的Intersurface DynamicsEntrepixPR Hoffman品牌因其对定制解决方案的承诺而脱颖而出--无论客户需要什么,他们都能提供。除了定制之外,他们的竞争优势还在于快速反应能力,强调快速周转时间以满足客户需求。此外,每个品牌都以深入的特定流程为重点,汇集了密切相关领域的专家。这种结构可确保客户受益于针对其特定制造挑战量身定制的真正专业技术。

在 Amtech Semiconductor Fabrication Solutions,我们通过专家合作为您的制造工艺提供支持。我们的专业子公司--Intersurface Dynamics、PR Hoffman 和 Entrepix 在特定应用化学品、抛光和研磨模板以及 CMP 相关升级方面拥有无与伦比的专业知识。作为一家灵活、反应迅速的公司,我们擅长于建立快速的合作伙伴关系,从而为您量身定制解决方案,解决您所面临的独特挑战。通过合作,我们可以改进您的半导体、化合物半导体和基板制造工艺的每一个关键步骤,推动创新和精度的提高。

为您的工艺获取正确的化学成分

我们专门提供针对特定应用的解决方案,以实现您的材料、工艺和性能目标。无论您是需要帮助选择合适的产品还是开发定制配方,我们的专家都能为您提供帮助。

特色产品

定制 CMP 泥浆

完全按照您的规格配制的泥浆

定制 PCMP 清洁

完全按照您的要求配制的清洁化学药剂

TENSOR D-Rinse

用于高压垫冲洗/晶片脱壳循环的添加剂

ENSOR DG 系列

集成电路制造清洁解决方案

传感器 HTD 系列

含防腐蚀和防静电添加剂的切割/背磨冷却剂/润滑剂

VECTOR HTC-SCA 系列

超声波/超声波洗涤剂

向量 HTG

合成研磨液

VECTOR HTI-1.1

用于非循环应用中硅切割、锯切和磨边的合成冷却剂/润滑剂

VECTOR HTR

用于漂洗硅晶片的添加剂 - 研磨/抛光、锯切和制纹后使用

VECTOR HTS 系列

用于半导体材料的研磨/抛光浆料添加剂

VECTOR C-E 系列金刚石泥浆

专为碳化硅开发的 C-E 金刚石浆料

VECTOR TXT

提高金刚石泥浆生产的去除率基质

为您的工艺获取正确的化学成分

量身定制的解决方案始于对话。无论您是需要帮助选择产品还是开发定制配方,我们的专家都将竭诚为您服务。