清洁剂 超声波、PCMP 和喷雾清洗

专为支持单晶片、批量、超声波、巨声波和喷雾清洗系统而设计的水基清洗剂。

在当今的高精密制造环境中,清洁至关重要,这不仅关系到产量,还关系到下游的完整性。

后工序清洁不仅要清除可见碎屑,还必须消除微小污染物,防止再沉积,并为粘合、涂层或包装做好表面准备。但每种材料、工具和工艺步骤都有其自身的挑战。

随着生产变得越来越复杂和微型化,有效的清洁已不仅仅是最后一步,而是提高产量和长期可靠性的关键因素。

  • 抛光和切割后的残留物通常含有研磨颗粒、金属离子或有机副产品,这些物质会导致缺陷或干扰涂层和包装。
  • 表面张力、干燥文物或湿清洁过程中的再沉积都会影响表面质量。
  • 清洁化学剂必须高效,同时材料安全,尤其是对于蓝宝石、砷化镓或薄硅晶片等易碎或高价值基底。
  • 超声波槽到单晶片旋转系统,工艺设备的兼容性要求对泡沫控制、温度稳定性和无有害堆积物进行微调。
  • 对于PCMP(Post-CMP)和高级包装工艺,洗涤剂必须与工作流程中的其他化学物质协同工作。

Intersurface Dynamics 提供一系列水基清洗剂和清洗添加剂,专门用于支持半导体、光学、光电子和平板显示器行业的单晶片、批量、超声波、巨声波和喷雾清洗系统。

精确控制图标

精确控制颗粒去除率和表面能

材料安全配方图标

低残留、对材料安全的配方

支持超声波、巨声波、喷雾和批处理系统图标

支持超声波、巨声波、喷雾和批处理系统

定制化学开发图标

定制开发,满足精确的工艺规范

超声波和超音波清洗

  • 专为超声波和兆声波设备设计的水性洗涤剂
  • 清除细小颗粒和残留物,不损坏基材
  • 专为光学、高指数玻璃、陶瓷和半导体等敏感材料配制

主要产品:
挑战 800 系列
Vector HTC-SCA 系列
挑战 700-HT

PCMP 和喷雾清洗

  • 专为后 CMP 和单晶片清洗工具设计的低泡沫化学药剂
  • 清除泥浆残渣、颗粒和化学副产品的理想选择
  • 确保粘接和钝化表面清洁无残留

主要产品:
定制 PCMP 清洁剂
张力 DG 系列
张量 D-Rinse

加工后冲洗和湿储存

  • 用于加工过程中冲洗和关键步骤之间湿储存的添加剂
  • 有助于防止颗粒再沉积和氧化
  • 与硅、化合物半导体和先进材料兼容

主要产品:
Vector HTR
挑战 700-HT

应用领域:

  • 晶片堆叠后和抛光后清洁
  • 切割后冲洗
  • CMP 和 PCMP 清洁
  • 用于光学和半导体的超声波/超声波槽清洗
  • FPD 玻璃和太阳能晶片清洗
  • 湿储存和粘接前准备

我们与客户密切合作,共同开发适合其特定设备、材料和目标的洗涤剂。

无论您需要的是超低泡沫特性、更强的腐蚀抑制能力,还是与特殊材料的兼容性,我们都能为您的工艺配制出合适的化学配方。

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定制配方

与我们的专家合作,为您的具体流程量身定制解决方案

我们提供各种久经考验的表面化学产品,但我们同样致力于与客户合作,开发新的定制解决方案,以应对新材料类型、集成挑战或工艺创新。

IDI 可协助开发用于制备晶圆表面的方法:

  • 下游加工
  • 晶圆与晶圆粘接
  • 外延
  • 要求超低表面粗糙度的工艺

IDI 可以协助的项目

  • 未满足的消耗品技术需求
  • POR 化学停产/淘汰
  • 进口挑战
  • 符合国防采购限制的消耗品

常见应用

  • 晶圆背面打磨和减薄
  • 用于硅、SiC、GaAs、GaN、InP、LiNbO₃ 的 CMP 和研磨
  • CMP、骰子和圈后清洁
  • 用于粘接、钝化和包装的表面预处理
  • 基底整形、裁剪和边缘倒角

美国制造

我们不仅仅是供应商,更是您团队中值得信赖的一员

IDI 拥有 40 多年解决实际工艺难题的实践经验。我们的产品在美国制造,交货期快,支持及时,并采用协作方式,确保化学成分适合您的工艺,而不是相反。

IDI 不仅仅是一家供应商,我们还是您团队值得信赖的延伸,专注于帮助您解决挑战和提高成果。我们与您密切合作,推荐、改进或定制开发解决方案,以优化性能、减少浪费,并使您的运营顺利进行。

  • 总部设在美国生产
  • 快速周转和响应时间
  • 特定应用解决方案
  • 协作专家支持
  • 经过验证的成果跨行业
美国制造
美国制造

为您的工艺获取正确的化学成分

我们专门提供针对特定应用的解决方案,以实现您的材料、工艺和性能目标。无论您是需要帮助选择合适的产品还是开发定制配方,我们的专家都能为您提供帮助。

Intersurface Dynamic 位于康涅狄格州贝瑟尔的制造工厂已通过 ISO-9001:2015 认证。我们对质量的承诺与先进的制造技术相结合,为客户提供了可靠、及时的服务。

专家解决方案,为您量身定制

先进半导体制造的专业解决方案

Amtech 半导体制造解决方案是 Amtech 系统公司的一个部门,该公司是半导体行业设备和材料的全球供应商。该部门供应半导体制造过程(包括先进封装和电子制造)中使用的资本设备和消耗品,涵盖从基片加工到最终组装的所有环节。

Amtech 半导体制造解决方案公司旗下的Intersurface DynamicsEntrepixPR Hoffman品牌因其对定制解决方案的承诺而脱颖而出--无论客户需要什么,他们都能提供。除了定制之外,他们的竞争优势还在于快速反应能力,强调快速周转时间以满足客户需求。此外,每个品牌都以深入的特定流程为重点,汇集了密切相关领域的专家。这种结构可确保客户受益于针对其特定制造挑战量身定制的真正专业技术。

在 Amtech Semiconductor Fabrication Solutions,我们通过专家合作为您的制造工艺提供支持。我们的专业子公司--Intersurface Dynamics、PR Hoffman 和 Entrepix 在特定应用化学品、抛光和研磨模板以及 CMP 相关升级方面拥有无与伦比的专业知识。作为一家灵活、反应迅速的公司,我们擅长于建立快速的合作伙伴关系,从而为您量身定制解决方案,解决您所面临的独特挑战。通过合作,我们可以改进您的半导体、化合物半导体和基板制造工艺的每一个关键步骤,推动创新和精度的提高。

特色产品

挑战 700-HT

用于部件抛光后冲洗和加工过程中湿式储存的添加剂

挑战 800 系列

用于超声波/超声波清洗的水性洗涤剂

挑战 900 系列

用于清洁平板显示器玻璃和太阳能晶片的低泡沫洗涤剂

定制 PCMP 清洁

完全按照您的要求配制的清洁化学药剂

TENSOR D-Rinse

用于高压垫冲洗/晶片脱壳循环的添加剂

ENSOR DG 系列

集成电路制造清洁解决方案

VECTOR HTC-SCA 系列

超声波/超声波洗涤剂

VECTOR HTR

用于漂洗硅晶片的添加剂 - 研磨/抛光、锯切和制纹后使用

为您的工艺获取正确的化学成分

量身定制的解决方案始于对话。无论您是需要帮助选择产品还是开发定制配方,我们的专家都将竭诚为您服务。