在当今的高精密制造环境中,清洁至关重要,这不仅关系到产量,还关系到下游的完整性。
后工序清洁不仅要清除可见碎屑,还必须消除微小污染物,防止再沉积,并为粘合、涂层或包装做好表面准备。但每种材料、工具和工艺步骤都有其自身的挑战。
随着生产变得越来越复杂和微型化,有效的清洁已不仅仅是最后一步,而是提高产量和长期可靠性的关键因素。
Intersurface Dynamics 提供一系列水基清洗剂和清洗添加剂,专门用于支持半导体、光学、光电子和平板显示器行业的单晶片、批量、超声波、巨声波和喷雾清洗系统。
精确控制颗粒去除率和表面能
低残留、对材料安全的配方
支持超声波、巨声波、喷雾和批处理系统
定制开发,满足精确的工艺规范
超声波和超音波清洗
- 专为超声波和兆声波设备设计的水性洗涤剂
- 清除细小颗粒和残留物,不损坏基材
- 专为光学、高指数玻璃、陶瓷和半导体等敏感材料配制
PCMP 和喷雾清洗
- 专为后 CMP 和单晶片清洗工具设计的低泡沫化学药剂
- 清除泥浆残渣、颗粒和化学副产品的理想选择
- 确保粘接和钝化表面清洁无残留
加工后冲洗和湿储存
- 用于加工过程中冲洗和关键步骤之间湿储存的添加剂
- 有助于防止颗粒再沉积和氧化
- 与硅、化合物半导体和先进材料兼容
主要产品:
Vector HTR
挑战 700-HT
应用领域:
我们与客户密切合作,共同开发适合其特定设备、材料和目标的洗涤剂。
无论您需要的是超低泡沫特性、更强的腐蚀抑制能力,还是与特殊材料的兼容性,我们都能为您的工艺配制出合适的化学配方。
为您的工艺获取正确的化学成分
我们专门提供针对特定应用的解决方案,以实现您的材料、工艺和性能目标。无论您是需要帮助选择合适的产品还是开发定制配方,我们的专家都能为您提供帮助。
专家解决方案,为您量身定制
先进半导体制造的专业解决方案
Amtech 半导体制造解决方案是 Amtech 系统公司的一个部门,该公司是半导体行业设备和材料的全球供应商。该部门供应半导体制造过程(包括先进封装和电子制造)中使用的资本设备和消耗品,涵盖从基片加工到最终组装的所有环节。
Amtech 半导体制造解决方案公司旗下的Intersurface Dynamics、Entrepix 和PR Hoffman品牌因其对定制解决方案的承诺而脱颖而出--无论客户需要什么,他们都能提供。除了定制之外,他们的竞争优势还在于快速反应能力,强调快速周转时间以满足客户需求。此外,每个品牌都以深入的特定流程为重点,汇集了密切相关领域的专家。这种结构可确保客户受益于针对其特定制造挑战量身定制的真正专业技术。
在 Amtech Semiconductor Fabrication Solutions,我们通过专家合作为您的制造工艺提供支持。我们的专业子公司--Intersurface Dynamics、PR Hoffman 和 Entrepix 在特定应用化学品、抛光和研磨模板以及 CMP 相关升级方面拥有无与伦比的专业知识。作为一家灵活、反应迅速的公司,我们擅长于建立快速的合作伙伴关系,从而为您量身定制解决方案,解决您所面临的独特挑战。通过合作,我们可以改进您的半导体、化合物半导体和基板制造工艺的每一个关键步骤,推动创新和精度的提高。
特色产品
为您的工艺获取正确的化学成分
量身定制的解决方案始于对话。无论您是需要帮助选择产品还是开发定制配方,我们的专家都将竭诚为您服务。