VECTOR HTR

按照说明使用，VECTOR HTR 可最大限度地减少因加工过程中的处理而造成的划痕；保护基底免受污染；防止难以清洗的浆料残留物附着在基底表面，从而更有效地进行下游清洗。 VECTOR HTR 建议用于单晶硅和多晶硅。

对于太阳能硅生产商来说，VECTOR HTR 可用于冲洗线锯后硅片上多余的浆料残留物。在拆卸前，用 3% 至 4% 的 VECTOR HTR 溶液和去离子水冲洗硅片，以消除染色并改善最终的清洁效果。Vector HTR 还可用于在拆卸后和清洗前湿润晶片。

对于半导体硅生产商，建议使用 VECTOR HTR 来冲洗/清洗研磨板。VECTOR HTR 可清除研磨板表面和沟槽中的加工碎屑，从而防止形成氧化铁/磨料颗粒聚集体，这些聚集体会脱落并造成划痕。用于冲洗/清洗抛光垫时，VECTOR HTR 可防止沾污；通过保持孔隙结构的开放性来延长抛光垫的使用寿命；并减少抛光垫调整的频率。

方向

• 线切割后的太阳能硅晶片应在静止安装时浸入在去离子水中含有 3% 至 4% VECTOR HTR 的浴液中，以防止浆料残留物附着在晶片上，并改善后续清洗和蚀刻工艺的效果。
• 在研磨或抛光后，VECTOR HTR 的使用稀释度为 2% 至 3%，具体取决于研磨设备和晶片的条件和类型。
• 碾压板抬起后，应将 VECTOR HTR 浸入表面。这将打破晶片和研磨板之间的表面张力，并清除任何可能导致刮伤和处理复杂化的残留污染物。然后可以将晶片取出、冲洗并保存在 2% 的 Vector HTR 槽中。

其他信息

VECTOR 产品有 5 加仑桶装和 55 加仑桶装，F.O.B. Bethel, Connecticut，还包括研磨液、用于研磨/抛光浆料的悬浮剂、冲洗/湿储存添加剂以及超声波/机械超声波清洗剂。可索取材料安全数据表。