用于精密光学和光子制造的特定应用工艺化学品

精致的材料。苛刻的工艺。零误差

无论是蓝宝石、熔融石英、钛酸钡还是聚碳酸酯制成的光学和光子元件,都需要极其精确的打磨、研磨、抛光和清洁。这些材料易碎,对热应力和机械应力敏感,物理特性变化很大。

钛酸钡、氟化钙和氟化镁、锗、铌酸锂和钽酸锂、熔融石英、红宝石、蓝宝石和锌化合物只是目前使用的部分光学材料。陶瓷材料包括氧化铝、氮化铝、碳化钛铝、碳化硅、氮化硅等。

制造商还必须在产量、表面质量和成本效益之间取得平衡,同时与不断变化的材料和行业需求保持同步。

  • 如果冷却剂的性能不稳定,材料的脆性会导致崩裂、微裂或断裂。
  • 复杂的几何形状和超高的平面度要求对泥浆粘度、颗粒悬浮和润滑进行严格控制。
  • 严格的清洁度对涂层、粘接或装配至关重要,但许多清洁剂会留下残留物或损坏敏感表面。
  • 从眼科镜片到高性能光子设备,不同应用领域的加工工艺各不相同,这意味着 "一刀切 "的化学方法很少奏效。

适用于加工过程每个阶段的精密化学药剂

Intersurface Dynamics 针对光学和光子材料(从蓝宝石、熔融石英和陶瓷到聚碳酸酯和高指数塑料)的独特需求,提供一整套加工化学品。无论您是从事眼科、平板显示器、太阳能还是先进光子设备的生产,我们的化学药剂都能保证其性能、一致性和清洁度。

用于精密光学和陶瓷表面的加工化学品

精密光学和陶瓷

从蓝宝石和熔融石英到钛酸钡和碳化硅,光学和陶瓷元件的加工必须极其小心。这些材料通常比较脆,难以抛光,对热应力和机械应力非常敏感。

用各种光学、压电和陶瓷材料制造元件和设备的设备和工艺必须精确而灵活。钛酸钡、氟化钙和氟化镁、锗、铌酸锂和钽酸锂、熔融石英、红宝石、蓝宝石和锌化合物只是当今使用的部分光学材料。陶瓷材料包括氧化铝、氮化铝、碳化钛铝、碳化硅、氮化硅等。

光学元件或陶瓷设备在粗加工或成型后,需要经过一系列工序,包括磨边、表面磨削、内径或外径锯切、研磨、抛光、清洁和涂层。最终,高质量的成品部件将用于卫星光学、激光组件、装甲电镀和其他关键技术应用。Intersurface Dynamics 生产用于生产这些零部件的高速、自动化和高精度工艺所需的冷却剂/润滑剂。

IDI 解决方案:

典型应用:
卫星光学器件、激光元件、装甲电镀和压电器件

用于满足光学和光子材料(从蓝宝石、熔融石英和陶瓷到聚碳酸酯和高指数塑料)独特要求的加工化学品

眼科

眼科镜片实验室面临着消费者对增值功能日益增长的需求,例如渐进式双焦点和三焦点镜片;薄轮廓、高指数和非球面镜片;以及具有抗反射和抗划痕涂层的镜片。

随着对渐进镜片、防刮伤涂层和高指数材料的需求不断增加,眼科实验室面临着基片和涂层的复杂组合--所有这些都需要温和而有效的加工。

镜片材料的发展趋势也从玻璃转向聚碳酸酯、硬树脂和高指数塑料。虽然这些材料比玻璃轻,但它们的抗冲击性要好得多。不过,由于它们比玻璃更容易划伤,因此许多镜片都需要硬涂层。典型的镜片制造流程包括:生成/研磨;细化/抛光;边缘研磨和镀膜前的清洁。

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用于高级和晶圆级光子器件及特种玻璃表面的加工化学品

先进光子设备和特种玻璃

尖端光电子技术要求对日益奇特的材料进行完美无瑕的加工。这些元件通常体积小、形状复杂,而且对污染物高度敏感。

从铌酸锂调制器到晶圆级光子元件,光子学与半导体制造之间的界限不断模糊。如今的光子设备通常依赖于先进半导体制造中使用的超平基底、高纯度化学物质和工艺控制。

具有多色反射表面的硅晶圆是先进材料与薄膜干涉涂层交叉的典范--这在先进的光子和半导体器件中很常见--精确的表面平整度、材料兼容性和污染控制对器件性能至关重要。

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用于制造平板显示器和 LCD 表面的加工化学品

平板显示器

随着玻璃基板变得越来越薄、越来越大,对平面度、表面均匀性和清洁度的要求比以往任何时候都要高,特别是在大型液晶面板生产中,剔除率很高。

由于大型液晶显示器制造商通常会拒收多达 40% 的下线面板,因此工艺进步(其中许多与特定应用的化学品有关)对于该行业未来成功生产更大、更实惠的显示器至关重要。Intersurface Dynamics 拥有多种产品,旨在提高平板显示器的显示玻璃和液晶显示器 (LCD) 组件的制造水平。

用于制造平整、超光滑液晶显示屏玻璃的工艺包括清洁、边缘研磨或倒角以及抛光。使用薄膜晶体管 (TFT) 是制造有源矩阵 LCD 的主流技术,不过随着玻璃基板尺寸的不断增大,该技术也在不断发展。

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用于制造平板玻璃和镜面的加工化学品

平板玻璃和镜子

无论是用于建筑、实验室级还是装饰,镜面和平板玻璃组件都要求完美无瑕的清晰度和镀膜兼容性。表面预处理是保证质量和产量的关键。

抛光通常是为了使表面高度平整、均匀或光亮,表面粗糙度低。最后一步的特殊涂层,如防眩涂层、彩色着色或为技术和实验室应用中的镜子设计的特殊反射涂层,需要超洁净的玻璃表面以获得最佳的附着力,并要求采用从超声波到手工清洗等各种清洗工艺。Intersurface Dynamics 生产全系列产品,旨在提高平板玻璃和镜子加工应用的效率,包括产量、质量和工具寿命(如适用)。

平板玻璃片通常要经过二次加工步骤,使其适合特定用途。使用镶有金刚石或其他磨料的切割工具确定形状和尺寸。钻孔和沉孔是为了制造孔洞,而磨边和倒角则是为了制造圆边或斜边,以达到装饰效果。

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用于制造高效太阳能晶片的工艺化学品

太阳能

高效太阳能晶片是由铸造的多晶硅锭或生长的单晶硅锭制成的。制作过程首先使用环形锯或往复锯对硅锭的两端进行切割。然后,使用研磨锯将硅锭锯成方形块。与使用碳化硅浆料的老式系统相比,现代方坯机使用金刚石涂层线材和专用冷却剂,加工时间缩短了一半,产生的废料也更少。

压平后,用金刚石砂轮对砌块边缘进行倒角,以防止崩裂。然后将倒角块安装在横梁上,用带碳化硅浆料的线锯将其切成薄晶片。冲洗晶片以去除大部分残留物,然后拆卸并使用超声波和喷雾设备进行清洗。

干净的晶片要么按原样出售,要么留作进一步加工,如纹理加工或蚀刻。这些晶片最终会变成光伏电池,将阳光转化为电能。在这些步骤中,可以使用一些特定应用的化学品来提高清洁度、减少缺陷并提高总体产量。

IDI 解决方案:

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定制配方

与我们的专家合作,为您的具体流程量身定制解决方案

我们提供各种久经考验的表面化学产品,但我们同样致力于与客户合作,开发新的定制解决方案,以应对新材料类型、集成挑战或工艺创新。

IDI 可协助开发用于制备晶圆表面的方法:

  • 下游加工
  • 晶圆与晶圆粘接
  • 外延
  • 要求超低表面粗糙度的工艺

IDI 可以协助的项目

  • 未满足的消耗品技术需求
  • POR 化学停产/淘汰
  • 进口挑战
  • 符合国防采购限制的消耗品

常见应用

  • 晶圆背面打磨和减薄
  • 用于硅、SiC、GaAs、GaN、InP、LiNbO₃ 的 CMP 和研磨
  • CMP、骰子和圈后清洁
  • 用于粘接、钝化和包装的表面预处理
  • 基底整形、裁剪和边缘倒角

美国制造

我们不仅仅是供应商,更是您团队中值得信赖的一员

IDI 拥有 40 多年解决实际工艺难题的实践经验。我们的产品在美国制造,交货期快,支持及时,并采用协作方式,确保化学成分适合您的工艺,而不是相反。

IDI 不仅仅是一家供应商,我们还是您团队值得信赖的延伸,专注于帮助您解决挑战和提高成果。我们与您密切合作,推荐、改进或定制开发解决方案,以优化性能、减少浪费,并使您的运营顺利进行。

  • 总部设在美国生产
  • 快速周转和响应时间
  • 特定应用解决方案
  • 协作专家支持
  • 经过验证的成果跨行业
美国制造
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为您的工艺获取正确的化学成分

我们专门提供针对特定应用的解决方案,以实现您的材料、工艺和性能目标。无论您是需要帮助选择合适的产品还是开发定制配方,我们的专家都能为您提供帮助。

Intersurface Dynamic 位于康涅狄格州贝瑟尔的制造工厂已通过 ISO-9001:2015 认证。我们对质量的承诺与先进的制造技术相结合,为客户提供了可靠、及时的服务。

专家解决方案,为您量身定制

先进半导体制造的专业解决方案

Amtech 半导体制造解决方案是 Amtech 系统公司的一个部门,该公司是半导体行业设备和材料的全球供应商。该部门供应半导体制造过程(包括先进封装和电子制造)中使用的资本设备和消耗品,涵盖从基片加工到最终组装的所有环节。

Amtech 半导体制造解决方案公司旗下的Intersurface DynamicsEntrepixPR Hoffman品牌因其对定制解决方案的承诺而脱颖而出--无论客户需要什么,他们都能提供。除了定制之外,他们的竞争优势还在于快速反应能力,强调快速周转时间以满足客户需求。此外,每个品牌都以深入的特定流程为重点,汇集了密切相关领域的专家。这种结构可确保客户受益于针对其特定制造挑战量身定制的真正专业技术。

在 Amtech Semiconductor Fabrication Solutions,我们通过专家合作为您的制造工艺提供支持。我们的专业子公司--Intersurface Dynamics、PR Hoffman 和 Entrepix 在特定应用化学品、抛光和研磨模板以及 CMP 相关升级方面拥有无与伦比的专业知识。作为一家灵活、反应迅速的公司,我们擅长于建立快速的合作伙伴关系,从而为您量身定制解决方案,解决您所面临的独特挑战。通过合作,我们可以改进您的半导体、化合物半导体和基板制造工艺的每一个关键步骤,推动创新和精度的提高。

特色产品

挑战 300 系列

合成磨削液

挑战 300r

用于塑料和玻璃镜片的合成发泡冷却剂

挑战 361-ht

用于陶瓷和光学材料的合成研磨液

挑战 543-ht

用于悬浮未处理磨料的研磨/抛光浆添加剂

挑战 550 系列

用于悬浮未处理磨料的研磨/抛光浆添加剂

挑战 700-HT

用于部件抛光后冲洗和加工过程中湿式储存的添加剂

挑战 800 系列

用于超声波/超声波清洗的水性洗涤剂

挑战 900 系列

用于清洁平板显示器玻璃和太阳能晶片的低泡沫洗涤剂

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量身定制的解决方案始于对话。无论您是需要帮助选择产品还是开发定制配方,我们的专家都将竭诚为您服务。