Exigences des procédés semi-conducteurs en matière de chimie de précision
Précision, pureté et contrôle des processus à chaque étape
Avec le rétrécissement des nœuds et la complexité croissante des appareils, les fabricants sont confrontés à des critères de conception stricts pour atteindre les performances souhaitées, ce qui les amène à rechercher des surfaces plus plates, plus lisses et ultra-propres.
La planarisation des couches dans les dispositifs et matériaux avancés augmente la demande de consommables créatifs pour la préparation des surfaces, y compris les boues, les oxydants, les tampons, les rinçages post-CMP et les produits chimiques de nettoyage.
Lors des étapes ultérieures du traitement, la valeur de chaque plaquette augmente de façon exponentielle, ce qui fait que des découpes et un nettoyage précis et sans défaut sont essentiels pour la protection du rendement et la fiabilité des dispositifs.
IDI propose un portefeuille de produits chimiques de haute performance conçus pour les flux de travail clés de la fabrication de semi-conducteurs, de la mise en forme des substrats au nettoyage final.
Intersurface Dynamics se concentre sur les problèmes complexes inhérents à la production des circuits intégrés les plus sophistiqués d'aujourd'hui, avec une expertise dans les domaines de la finition de surface, de la planarisation et de l'emballage. Cette expertise s'est traduite par une chimie hautement développée pour le polissage mécanique chimique et le nettoyage post-CMP, le meulage et le rodage, le dédoublage/singulation et le nettoyage post-dice/rinçage de passivation.
Bien que la plupart des dispositifs à semi-conducteurs soient fabriqués sur des tranches de silicium, les matériaux semi-conducteurs composés tels que SiC, GaAs, GaN et InP sont désormais également utilisés pour leurs avantages dans les applications qui exigent une puissance élevée ou une fréquence de commutation élevée.Quel que soit le matériau, les substrats semi-conducteurs doivent être ultraplats et exempts de défauts.
IDI propose des composés de polissage et des produits chimiques de nettoyage pour une large gamme de matériaux liés aux semi-conducteurs :
- Additifs spécifiques à l'application et boues CMP entièrement formulées
- Compatible avec les matériaux difficiles à traiter comme le SiC et le GaN
- Prise en charge des processus de planarisation, d'amincissement et d'emballage avancé
- Détergents spécifiques à l'application et nettoyants PMCP entièrement formulés
- Éliminer la boue, la poussière de silicium et les résidus de processus
- Prévenir la corrosion et la contamination des surfaces
- Prise en charge du stockage humide, du rinçage des tampons et du décollage des gaufrettes
Des solutions d'experts, conçues pour vous
Solutions spécialisées pour la fabrication de semi-conducteurs avancés
Amtech Semiconductor Fabrication Solutions est une division d'Amtech Systems, Inc, fournisseur mondial d'équipements et de matériaux pour l'industrie des semi-conducteurs. Ce segment fournit des biens d'équipement et des consommables utilisés tout au long du processus de fabrication des semi-conducteurs - y compris l'emballage avancé et la fabrication électronique - couvrant tous les aspects, du traitement des substrats à l'assemblage final.
Les marques Intersurface Dynamics, Entrepix et PR Hoffman d'Amtech Semiconductor Fabrication Solutions se distinguent par leur engagement à fournir des solutions personnalisées - quels que soient les besoins du client, elles le font. Au-delà de la personnalisation, leur avantage concurrentiel réside dans leur réactivité, qui met l'accent sur des délais d'exécution rapides pour répondre aux demandes des clients. En outre, chaque marque opère en se concentrant sur un processus spécifique, en rassemblant des spécialistes dans des domaines étroitement liés. Cette structure garantit que les clients bénéficient d'une véritable expertise adaptée à leurs défis de fabrication spécifiques.
Chez Amtech Semiconductor Fabrication Solutions, nous renforçons votre processus de fabrication grâce à la collaboration d'experts. Nos filiales spécialisées - Intersurface Dynamics, PR Hoffman et Entrepix - apportent une expertise inégalée en matière de produits chimiques spécifiques aux applications, de gabarits de polissage et de rodage et de mises à niveau liées au CMP. En tant qu'entreprise souple et réactive, nous excellons dans la formation de partenariats rapides, ce qui nous permet de personnaliser des solutions qui répondent à vos défis uniques. Ensemble, nous améliorons chaque étape critique de vos processus de fabrication de semi-conducteurs, de semi-conducteurs composés et de substrats, en favorisant l'innovation et la précision.
Processus de fabrication des substrats semi-conducteurs
Substrat d'entrée
- Si (silicium)
- SiC (carbure de silicium)
- GaN (nitrure de gallium)
- GaAs (arséniure de gallium)
- InP (phosphure d'indium)
- Verre
- Saphir
Sortie
Plaquette finie ou substrat
La chimie adaptée à votre procédé
Nous sommes spécialisés dans les solutions spécifiques aux applications, adaptées à vos matériaux, processus et objectifs de performance. Que vous ayez besoin d'aide pour sélectionner le bon produit ou pour développer une formulation personnalisée, nos experts sont là pour vous aider.
Produits vedettes
Additif pour les cycles de rinçage des tampons à haute pression et de décoquillage des plaquettes
Découpage/broyage arrière Liquides de refroidissement/lubrifiants avec additifs anticorrosion et antistatiques (ESD)
Liquide de refroidissement/lubrifiant synthétique pour le broyage, le sciage et l'affûtage des bords en silicium dans des applications sans circulation
Additif pour le rinçage des plaquettes de silicium - après le laminage/polissage, le sciage et la texturation
La chimie adaptée à votre procédé
Les solutions sur mesure commencent par une conversation. Que vous ayez besoin d'aide pour sélectionner un produit ou développer une formulation personnalisée, nos experts sont là pour vous aider.