定制 PCMP 清洁
完全按照您的要求配制的清洁化学药剂
后 CMP（化学机械平面化）配方是一种水基清洗剂，其配方具有材料兼容性，可有效清除 CMP 过程中产生的污染物。IDI 清洗配方无毒，可确保操作人员的安全，并易于处理。
是否有需要专家协助的 PCMP 清洁应用？
我们的团队可以为您量身定制解决方案，以解决以下问题
- 需要客户解决方案的小批量应用
- 目前合格产品的过时
- 进口挑战或美国采购要求
我们的流程
Intersurface Dynamics 不仅仅是一家耗材公司；我们还是 Amtech 公司网络的一部分，能够以其他公司无法企及的方式利用能力和创新。我们与Entrepix CMP 铸造厂建立了合作伙伴关系，我们的口号是 "您需要，我们倾听"。
您使用的配方是否即将过时？我们可以帮助您解决这个问题！
进口成本是否威胁到您的底线？我们可以帮助您！
无论是定制配方还是现成产品，我们都能满足您的需求。我们生产的每一批产品都经过质量控制检查和使用认证，确保您每次都能获得相同质量的产品。
我们的能力包括光学发射元素分析、红外扫描和粒度分布分析，以满足当今半导体市场的严格要求。
好处
按用途定制，以确保材料兼容性和有效去除抛光残留物
优化表面润湿性，实现有效、无残留干燥
高度集中，实现最佳拥有成本
清洗后缺陷率低
与先进半导体集成电路中的低 k 电介质、氧化物、复合材料和其他薄膜完全兼容
使用安全、经济
通过 ISO 认证的项目和功能齐全的质量检测实验室