挑战 550-ht 用于再循环系统的非悬浮型研磨/抛光泥浆添加剂
Challenge 550-HT 是为研磨和抛光过程中的 "高速循环 "浆料应用而开发的。它利用高速循环泵（大多数研磨机的标准配置）的能量，均匀地分散氧化铝、氧化铈、碳化硅、碳化硼和石榴石磨料。它还能消除研磨液槽和研磨液管路中的研磨液 "硬结"，从而减少研磨液的使用量。使用 CHALLENGE 550-HT 还能生产出更清洁的零件，从而提高下游清洗线的效率。
典型应用：
用于循环系统的单面和双面研磨/抛光
典型特性
- pH - 10.0
- 电导率 Ms - 0.3
- 比重 - 1.02
使用说明：
CHALLENGE 550-HT 的使用浓度约为 3-5%（按重量计），可与去离子水或硬度不高的自来水一起使用。CHALLENGE 550-HT 与泥浆槽中的水混合后，加入研磨剂。泥浆几乎可以立即使用。对于一米长的机器，起始粒度为 400 克/升。对于单米机器，研磨液的流速应约为 300 毫升/分钟。
好处
无划痕
减少表层下的损坏
无硬包装
减少研磨废料
提高清除率
赛后清洁更方便
对机器无腐蚀性
挑战 557-ht 用于氧化铈和氧化铝抛光泥浆的泥浆添加剂
CHALLENGE 557-HT 是一种水基研磨液添加剂，设计用于添加到氧化铈和氧化铝抛光研磨液中。抛光浆料的性质及其亚微米级的颗粒尺寸造成了抛光后的清洁问题。使用标准研磨液可以对高精度光学零件进行抛光，使其达到正确的规格，但要从零件表面清除研磨液颗粒却非常困难，可能会导致零件损坏或报废。在抛光浆料中添加 CHALLENGE 557-HT 可使浆料更容易从玻璃或陶瓷表面清洗干净。此外，CHALLENGE 557-HT 还能消除染色问题和抛光痕迹。CHALLENGE 557-HT 也可与其他抛光浆料一起使用，以获得类似效果。
典型应用：
使用氧化铈和氧化铝浆料对精密光学仪器、眼科透镜、平板显示器材料、玻璃盘和其他精密抛光部件进行抛光。
典型特性
- pH - 13.0
- 电导率女士 - 16.5
- 比重 - 1.02
CHALLENGE 557-HT 还提供 pH 值为中性（CHALLENGE 557-HT-7）和 pH 值为 10（CHALLENGE 557-HT-10）的产品。
使用方法：
CHALLENGE 557-HT 的使用浓度为泥浆体积的 2-3%。将 CHALLENGE 557-HT 加入预混合的泥浆中。泥浆即可立即使用。
好处
更好的分散性
消除染色
减少表层下的损坏
抛光后更容易清洁
对机器无腐蚀性
挑战 557-s 用于氧化铈和氧化铝抛光泥浆的泥浆添加剂
Challenge 557-S 是一种水基浆料添加剂，设计用于添加到氧化铈和氧化铝抛光浆料中，以消除轻度划痕并提高去除率。此外，抛光浆料的性质及其亚微米级的颗粒尺寸也会造成抛光后的清洁问题。使用标准研磨液可以对高精度光学零件进行抛光，使其达到正确的规格，但要从零件表面清除研磨液颗粒却很困难，可能会导致零件损坏或报废。在抛光浆料中添加 CHALLENGE 557-S 可使浆料更容易从玻璃或陶瓷表面清洗干净。此外， CHALLENGE 557-S 还能消除染色问题和抛光痕迹。CHALLENGE 557-S 也可与其他抛光浆料一起使用，以获得类似效果。
典型应用：
使用氧化铈和氧化铝浆料对精密光学仪器、眼科透镜、平板显示器材料、玻璃盘和其他精密抛光部件进行抛光。
典型特性
- pH - 12.0
- 电导率女士 - 6.1
- 比重 - 1.01
使用方法：
CHALLENGE 557-S 的使用浓度为泥浆体积的 2-3%。将 CHALLENGE 557-S 加入预混泥浆中。泥浆即可立即使用。
好处
消除轻微划痕
提高清除率
更好的分散性
消除染色
减少表层下的损坏
抛光后更容易清洁
对机器无腐蚀性
其他信息
CHALLENGE 产品以 5 加仑桶装和 55 加仑桶装供应，F.O.B. Bethel, Connecticut，还包括：研磨液、锯切液、研磨/抛光浆料添加剂、冲洗/湿储存添加剂和超声波/超声波清洗剂。可索取安全数据表。