Lodos CMP a medida
Lodos totalmente formulados según sus especificaciones
Los productos CMP son lodos abrasivos compuestos por partículas de óxido metálico de 50-200 nm de pureza ultra alta y tamaño ajustado. Los lodos se optimizan en función de la aplicación y se formulan para que sean compatibles con los materiales que se van a pulir y ofrezcan un índice de eliminación y una selectividad óptimos. Las partículas se dispersan en una matriz polimérica especial con agentes humectantes y aditivos de control de flujo para una estabilidad óptima y una fácil eliminación una vez finalizado el proceso CMP.
¿Tiene una solicitud de CMP que requiere la ayuda de un experto?
Nuestro equipo puede ayudarle con una solución personalizada que aborde:
- Aplicaciones de bajo volumen que requieren una solución para el cliente
- Obsolescencia de los productos actualmente cualificados
- Problemas de importación o requisitos de abastecimiento en EE.UU.
Nuestro proceso
Intersurface Dynamics tiene acceso al laboratorio de tecnología CMP de nuestra empresa hermana Entrepix.
Esto nos permite examinar los posibles consumibles y procesos de CMP directamente en las obleas del cliente y ofrecer a nuestros clientes un proceso llave en mano respaldado por datos de aplicación significativos.
Nuestro laboratorio de calidad también está equipado para proporcionar todos los análisis esperados para aplicaciones sensibles de semiconductores. Estas mediciones incluyen: trazas de metales por ICP-OES, pH y conductividad, viscosidad y mediciones de tamaño de partícula a petición.
Entre los productos estándar se incluyen Vector TXT Slurry Base que se utiliza tal como se recibe y se mezcla con el diamante suministrado por el cliente y es la solución más versátil y económica. Lechadas de diamante Vector CE pueden adquirirse premezcladas con diamante.
Ventajas:
Velocidad de eliminación de películas ajustable
Selectividad sintonizable en situaciones de presencia de varios materiales en la oblea
Personalizable para lograr la topografía de oblea deseada
Baja defectividad en películas de metal y óxido
Totalmente compatible con dieléctricos de bajo k, óxidos, materiales compuestos y otras películas que se encuentran en las integraciones de semiconductores avanzados.
Uso seguro y económico
Programa con certificación ISO y laboratorio de inspección de calidad plenamente capacitado